第863章 双重曝光技术的困难
这个问题，让刘响尚脸上的狂热稍微冷却了一些。
他皱着眉头盘算了片刻，最终还是苦笑着摇了摇头。
“沈总，这毕竟是开创性的无人区。从图纸设计到流体仿真，再到核心部件的试制，每一步都是在试错。我今天可以拍胸脯答应合作，但我确实没法给您一个明确的交机时间。”
刘响尚诚恳地看着沈浩：“这不符合工程规律，我不能对雷霆工业撒谎。”
沈浩眼中闪过一丝失望。
没有明确的时间节点，意味着鹏汕基地的产线规划将充满不确定性，是个不小的隐患。
但他心里也清楚，刘响尚说的是实话。
“我理解。”沈浩点了点头，主动伸出手。
“无论如何，感谢刘董的魄力。后续的技术对接，由季总的团队负责。希望我们能早日看到这台工业巨兽的诞生。”
“一定竭尽全力！”刘响尚双手握住沈浩的手，重重地摇了摇。
……
鹏城雷霆芯片厂内。
与雷霆工业集团内其他部门下班后逐渐安静的氛围不同，芯片厂的技术研发区域，此刻依旧灯火通明，亮如白昼。
无尘实验室内，身穿白色无尘服的工程师们行色匆匆，每个人的脸上都带着一丝无法掩饰的疲惫，但眼神却异常专注。
气氛紧张得仿佛一根拉满的弓弦。
“梁博士，第十七次仿真测试结果出来了，还是失败。”
一名年轻的工程师将一份布满复杂曲线和数据的报告，递到了梁锰颂的面前，声音里带着难以抑制的沮丧。
“套刻精度在第二次曝光时出现了超过0.5纳米的偏移，这已经超出了我们设定的容错阈值。按照这个结果，生产出来的晶圆，良率几乎为零。”
梁锰颂接过报告，那双布满血丝的眼睛死死地盯着屏幕上的数据。
他身边的胡政明，这位FinFET技术的开创者，此刻也紧锁着眉头，脸色凝重。
自从去年花旗国连续两次挥舞制裁大棒，特别是第二次动用“长臂管辖”彻底封死了从花旗国盟友处获取设备和材料的通路后，整个雷霆芯片团队的心里都憋着一股滔天的怒火。
这股怒火，最终化为了一个共同的目标：在全球所有竞争对手之前，率先攻克14纳米制程！
他们要用最硬核的技术突破，来回应外界的封锁和唱衰。
只可惜，技术上实现的难度远超想象。
去年，胡政明带领团队成功复现并优化了他的FinFET技术，为迈向20纳米以下的制程扫清了最大的理论障碍。
然而，从理论到工程落地，中间还横亘着一座名为“双重曝光”的险峻高山。
“还是工件台的移动精度问题。”胡政明指着报告上的一个峰值曲线，沉声说道。
“现有的DUV浸没式光刻机，在28纳米节点已经榨干了所有的光学潜力。想要在同一块晶圆上刻画出14纳米的精细线路，就必须进行两次曝光，第一次刻出部分线路，然后精确移动工件台，再进行第二次曝光，将剩余的线路补充上去。”
他顿了顿，语气中充满了技术人员特有的执拗与无奈。
“这听起来简单，但对工件台的移动精度、两次曝光之间的对准系统提出了近乎变态的要求。我们对现有的设备进行了改造，但机械性能的极限就在那里，软件算法可以补偿，但无法凭空创造奇迹。”
梁锰颂没有说话，只是默默地翻看着失败的数据。
他当然知道这其中的难度。
虽然他们仓库里还躺着一台从ASML买来的EUV光刻机，理论上可以直接用于14纳米甚至7纳米的生产。
但那台机器就像一头桀骜不驯的史前巨兽，充满了未知的技术陷阱。
连ASML自己的工程师团队，在帮助台积电调试时都焦头烂额，至今没有摸透它的脾气。
把全部希望寄托在这唯一一台、且尚未成熟的EUV光刻机上，风险太大。
因此，梁锰颂和胡政明商议后，还是决定死磕DUV下的双重曝光技术。
这条路，虽然艰难，但至少技术脉络是清晰的。
根据他们得到的情报，行业领头羊台积电，去年就已经在原有的40纳米产线上，通过双重曝光技术成功量产了20纳米芯片，目前正在全力将其移植到28纳米产线上，目标直指14纳米。
他们不能再等了。
“双重曝光技术是一个系统工程。”
就在这时，一个略带沙哑的声音从旁边传来。
说话的是一位来自科学院微电子所的研究员，头发花白，同样穿着无尘服。
他是被派来支援雷霆工业的技术专家之一。
“除了梁博士你们提到的工件台和对准系统，后续的刻蚀与薄膜沉积工艺，也必须做出相应的调整和配合。两次曝光形成的图形，在刻蚀环节如何保证侧壁的陡峭度和一致性，这同样是世界级的难题。”
这位老专家的话，让在场的工程师们都陷入了沉思。
幸好，他们不是在孤军奋战。
花旗国的制裁，意外地激发了东大半导体产业空前的凝聚力。
当得知雷霆芯片厂正在全力攻关14纳米，并且遇到了系统性的工程难题后，几乎整个产业链都动了起来。
科学院的相关研究所、国内顶尖大学的微电子学院、以及五星华创、东微公司、魔都微电子等国产设备厂商，纷纷派遣最顶尖的技术骨干，带着设备和方案来到鹏城，与雷霆的团队联合攻关。
一时间，雷霆芯片厂的研发中心，成了东大半导体产业技术精英的汇聚地。
这种不计成本、不问得失的通力协作，让梁锰颂在无尽的压力之下，看到了一丝曙光。
“通知所有小组负责人，一个小时后开会。”
梁锰颂终于抬起头，眼中的疲惫被一种决然的锋芒所取代。
“把所有失败的数据都整理出来，我们必须在明天天亮之前，找到套刻精度偏移的根本原因，拿出一套新的补偿算法！”
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